摘要:低压SGT MOS是一种基于传统沟槽式MOSFET的一种改进型的功率MOSFET。相对于传统MOSFET功率器件,它的栅漏电容大大降低,开关速度变得更快,具有更加良好的器件性能,因此被广泛的应用于通讯、计算机、汽车等行业。
本文首先介绍了SGT MOS的研究背景,然后分析了SGT MOS的工作原理和电学参数,继而研究了SGT MOS的元胞结构,最后用TSUPREM4工艺仿真软件和MEDICI电学特性仿真软件设计了一款低压SGT MOS,并对器件的元胞结构和击穿电压进行了仿真,得到的仿真结果与理论分析一致。
关键词:SGT MOS;电容;仿真;工艺流程
目录
摘要
Abstract
第一章 概述-1
1.1 功率器件概述-1
1.2 传统MOSFET的发展历程-1
1.3 本文研究的主要内容-2
第二章 SGT MOS的基本结构及工作原理-4
2.1 SGT MOS的元胞结构-4
2.2 SGT MOS的工作原理-5
2.3 SGT MOS的电学特性-6
第三章 SGT MOS的工艺-10
3.1光刻与刻蚀的工艺简介-10
3.2 SGT MOS的工艺流程-11
第四章 SGT MOS的分析与击穿特性仿真-15
4.1 TSUPREM4仿真软件简介-15
4.2 SGT MOS 的工艺仿真-16
4.3 SGT MOS 的击穿特性仿真-20
第五章 总结与展望-21
结束语-22
致谢-23
参考文献-24
附录A -25
附录B -43