摘要:近年来,随着政府大力推动集成电路产业的发展,将集成电路芯片制造与生产推到了一个制高点,中国集成电路产业蓬勃发展。本文介绍了数字集成电路的从理论到产品的过程,本设计基于TSMC的7nm工艺,简要讲解了从数据导入制成网表、EDA工具导入数据,然后进行综合、工程师通过ICC2工具进行布局规划、将模块与标准单元进行放置,进行时钟树的综合、最后布线等步骤。本论文依据IC后端设计各阶段的工作原理,以及EDA工具和ICC命令的支持,针对数字集成电路后端设计中在布线过程中遇到的DRC问题及解决方法,重点研究了在布线阶段通过TCL语言利用redo short脚本在绕线阶段删线重新绕线减少DRC的方法,以及通过对shape以及via的具体操作,在layer层create routing blockage的操作修复ICC DRC与Calibre DRC。
关键词:集成电路;布局规划;时钟树;DRC;综合
目录
摘要
Abstract
第一章 绪论-1
数字集成电路历史发展-1
第二章 数字IC后端设计结构-2
2.1数字后端设计流程简介-2
2.1.1数据导入-2
2.1.2布局规划-3
2.1.3单元放置-4
2.1.4时钟树综合-5
2.1.5 布线-7
2.1.6 静态时序分析-7
第三章 布线(route)阶段主要步骤-8
3.1全局布线-8
3.1.1全局布线目标-8
3.1.2全局布线规划-9
3.2详细布线-9
3.2.1详细布线目标-10
3.2.2详细布线规则-11
3.3设计规则检查DRC(Design Rule Check)-12
3.3.1 DRC的介绍-12
3.3.2 DRC在数字IC中的检查-13
3.4电路规则检查LVS(Layout Versus Schematic)-13
3.4.1 LVS介绍-13
3.4.2 LVS在数字IC中的检查-14
第四章route阶段减少DRC问题的解决-14
4.1布线层次分布-14
4.2 详细布线阶段减少DRC-15
4.3手动修复减少ICC中的DRC-17
4.4手动修复Calibre DRC-19
第五章 总结-22
展望-23
致 谢-24
附录-27
附录A redo short 脚本-27
附录B 芯片剖面图-29
附录C Calibre DRC的定义-30
附录D 实习成果图(BTO status)-31