摘 要:随着光电产业的飞速发展,透明导电薄膜进入了人们的视野。作为光电子器件的关键电极材料,在平面显示、触摸屏、薄膜太阳能电池等领域具有巨大的市场需求。开发新型透明导电薄膜,对未来我国光电子产业的发展意义重大。本文综述了我国透明导电薄膜的产业、技术现状以及应用,简单介绍了五种薄膜制备工艺技术并进行优缺点对比。着重讨论了利用磁控溅射法制备CdO基薄膜,通过改变薄膜中铟的含量,从而提高太阳能电池的光利用率。最后,对透明导电薄膜的发展趋势进行了展望。
关键词:透明导电薄膜,研究进展,制备工艺,太阳能电池,发展趋势
目录
摘要
Abstract
1 透明导电薄膜概述-3
1.1 概述-3
1.2 透明导电薄膜现状-3
1.3 透明导电薄膜的应用-4
2 透明导电薄膜的制备-5
2.1 真空蒸镀法-5
2.2 磁控溅射法-6
2.3 脉冲激光沉积法(PLD)-7
2.4 溶胶-凝胶法(Sol-Gel)-7
2.5 喷雾热解法(SP)-8
2.6 几种制备技术的比较-9
3 基于磁控溅射法的研究分析-10
3.1 实验原理-10
3.2 实验步骤-11
3.3 实验结果与分析-11
结论-15
参 考 文 献-16
致 谢-17