磁流变抛光设备控制系统的设计.doc

磁流变抛光技术在抛光效率以及光学元件的表面质量提升方面一直以来都是人们的研究难点。阳志强等人通过采用不同的磁场强度在不同的抛光时间进行组合的实验方法，解决了这一加...

分类：科技学院 - 字数：16357

雾化液高效进入抛光界面实装置创新设计.doc

化学机械抛光的原理示意图如图1-1所示，系统由一个旋转的硅片固定装置、承载抛光垫的工作台和抛光液(浆料)供给系统三部分组成。工作时由旋转工件以一定的压力压在随工作台一起旋...

分类：机械工程 - 字数：15884

世界半导体产业已经进入12英寸晶圆时代，要求IC元件有最优的表面平整度，以满足制造微米及亚微米集成电路的需要。与传统的CVD技术、蚀刻技术相比，CMP技术具有很多优势，如成本低...

分类：工业大学 - 字数：19289

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