纳米薄膜的制备及表征.docx

摘要：本论文采用了纳米球刻蚀技术，即利用聚苯乙烯小球自组装的有序点阵作为掩模板，并在此掩模板上采用真空离子溅射镀膜技术来镀金膜，然后通过煅烧的方法去除聚苯乙烯小球，获得具有特征微观结构的纳米金薄膜。结果表明，纳米球刻蚀技术可有效用于纳米图案薄膜的制备，且该技术与传统的光刻、电子束刻蚀等技术相比成本更低、操作更简便。

关键词：纳米球刻蚀技术； 自组装； 薄膜

目录

摘要

Abstract

1 引言-4

1.1 薄膜制备方法-4

1.2 薄膜的分类-4

1.3 制备特定纳米结构的薄膜-4

2 实验-5

2.1 聚苯乙烯球点阵的制备-5

2.1.1 PS球点阵的制备方法-5

2.1.2 制备PS球点阵的实验步骤-5

2.2 控制PS球阵间隙大小-6

2.3 喷金仪镀金膜-7

2.3.1 喷金仪镀膜原理-7

2.3.2 喷金仪镀金膜实验步骤-7

2.4 煅烧-7

2.5 扫描电子显微镜表征微观形貌结构-7

3 结果与讨论-7

3.1 PS球的有序点阵-7

3.2 控制PS球掩模板的间隙-8

3.3 以PS球有序点阵为掩模板制备纳米金膜-9

3.3.1 喷金2分钟样品-9

3.3.2 喷金5分钟样品-11

4结论-12

参考文献-13

致谢-14